Vol 103 - N° 2 - avril 2017
P. 141-322Elsevier Masson SAS
Page :i
Page :iv
Page :141-149
C. Perrin, F. Khiami, L. Beguin, P. Calmels, G. Gresta, P. Edouard
Page :151-157
A. Terrier, J. Ston, A. Dewarrat, F. Becce, A. Farron
Page :159-163
A. Adikrishna, H. Hong, M.F. Deslivia, B. Zhu, J. Tan, I.-H. Jeon
Page :165-169
J. Fleischer, A. Schleyer, R. Nassutt, U. Grittner, I. Ojodu, S.J. Hopp
Page :171-176
K. Horst, C. Garving, T. Thometzki, P. Lichte, M. Knobe, T. Dienstknecht, M. Hofman, H.-C. Pape
Page :177-182
N. Nachef, V. Bariatinsky, S. Sulimovic, C. Fontaine, C. Chantelot
Page :183-189
L. Tarallo, R. Mugnai, M. Rocchi, F. Capra, F. Catani
Page :191-198
J. Chevrollier, G. Pomares, S. Huguet, F. Dap, G. Dautel
Page :199-202
C. Acosta-Olivo, J.C. Gonzalez-Saldivar, G. Villarreal-Villarreal, A. Torres-Botello, E. Gomez-Garcia, Y. Tamez-Mata, V. Peña-Martinez
Page :203-207
A. Koutsomanis, J.J. Hidalgo Diaz, P. Vernet, F. Séverac, P. Liverneaux, S. Facca
Page :209-215
T. Thelen, P. Thelen, H. Demezon, S. Aunoble, J.-C. Le Huec
Page :217-222
Y. Kubo, G. Motomura, S. Ikemura, K. Sonoda, T. Yamamoto, Y. Nakashima
Page :223-227
M.M. Elzohairy, A.M. Salama
Page :229-234
Y.L. Zhang, W. Zhang, C.Q. Zhang
Page :235-238
B. Sonnery-Cottet, A. Saithna, A. Azeem, E. Choudja, J.B. Pic, J. Cabaton, M. Thaunat
Page :239-243
H. Mutsuzaki, H. Fujie, H. Nakajima, M. Fukagawa, S. Nomura, M. Sakane
Page :245-250
M. Munier, M. Donnez, M. Ollivier, X. Flecher, P. Chabrand, J.-N. Argenson, S. Parratte
Page :251-256
H. Kobayashi, Y. Akamatsu, K. Kumagai, Y. Kusayama, M. Aratake, T. Saito
Page :257-262
S.S. Wallace, D. Bechtold, A. Sassoon
Page :263-268
H.-J. Kim, K.-C. Park, J.-W. Kim, C.-W. Oh, H.-S. Kyung, J.-K. Oh, K.-H. Park, S.-D. Yoon
Page :269-273
G. Martínez, S. Drago, C. Avilés, A. Ibañez, F. Hodgson, C. Ramírez
Page :275-278
G. Lateur, P. Grobost, J. Gerbelot, A. Eid, J. Griffet, A. Courvoisier
Page :279-283
L. Boissière, B. Moal, O. Gille, E. De-Roquefeuil, M. Durieux, I. Obeid, V. Dousset, J.-M. Vital, W. Skalli
Page :285-290
J. Simon, P.-M. Longis, N. Passuti
Page :291-294
C. Swennen, S. Bredin, C. Eap, C. Mensa, X. Ohl, V. Girard
Page :295-299
F. Zairi, T.P. Sunna, H.J. Westwick, A.G. Weil, Z. Wang, G. Boubez, D. Shedid
Page :301-305
V. Matter-Parrat, C. Ronde-Oustau, C. Boéri, J. Gaudias, J.-Y. Jenny
Page :307-314
V. Lavergne, M. Malo, C. Gaudelli, M. Laprade, S. Leduc, P. Laflamme, D.M. Rouleau
Page :315-318
A. Peyronnet, C. Marc, R. Lancigu, L. Rony, P. Cronier, L. Hubert
Page :319-321
H.-J. Kim, P.-T. Kim, H.-J. Lee, M.F. Deslivia
EM-CONSULTE.COM est déclaré à la CNIL, déclaration n° 1286925.
En application de la loi nº78-17 du 6 janvier 1978 relative à l'informatique, aux fichiers et aux libertés, vous disposez des droits d'opposition (art.26 de la loi), d'accès (art.34 à 38 de la loi), et de rectification (art.36 de la loi) des données vous concernant. Ainsi, vous pouvez exiger que soient rectifiées, complétées, clarifiées, mises à jour ou effacées les informations vous concernant qui sont inexactes, incomplètes, équivoques, périmées ou dont la collecte ou l'utilisation ou la conservation est interdite.
Les informations personnelles concernant les visiteurs de notre site, y compris leur identité, sont confidentielles.
Le responsable du site s'engage sur l'honneur à respecter les conditions légales de confidentialité applicables en France et à ne pas divulguer ces informations à des tiers.
Tout le contenu de ce site: Copyright © 2025 Elsevier, ses concédants de licence et ses contributeurs. Tout les droits sont réservés, y compris ceux relatifs à l'exploration de textes et de données, a la formation en IA et aux technologies similaires. Pour tout contenu en libre accès, les conditions de licence Creative Commons s'appliquent.