Vol 29 - N° 4 - décembre 2023
P. 197-272© AIPTLF
Página :i
Technostress and its relationship with mental load in the professional context
Página :197-213
J.M. Castillo, E. Galy, P. Thérouanne
Resumen EsquemaPreparing for the future : relationship between career orientation, proactive career behaviors and career satisfaction
Página :215-229
N. Bazine, M. Peña-Jimenez, G.R.M. Déprez
Resumen EsquemaCreative collective intelligence: A conceptualization and diagnostic indicators based on the study of activity
Página :231-247
V. Saint-Dizier de Almeida, Y. Kebir, S. Arfaoui, J. de Almeida
Resumen EsquemaProspecting the situated acceptance of a technology in a professional context – A qualitative study on road operation
Página :249-271
E. Cippelletti, S. Adelé, C. Dionisio, M.E. Bobillier Chaumon
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