Surface organometallic chemistry: a route to well-defined boron heterogeneous co-catalyst for olefin polymerisation - 10/12/10
, Frédéric Lefebvre, Jean-Marie BassetBienvenue sur EM-consulte, la référence des professionnels de santé.
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Abstract |
The reaction of tris(pentafluorophenyl)borane, B(C6F5)3 with surface silanol (≡Si–OH) of silica occurs only in the presence of a Brønsted base (diethylaniline, Et2NPh), which does not form a complex with B(C6F5)3, and affords selectively a well-defined ionic entity [≡SiO–B(C6F5)3]–[HNEt2Ph]+. With a strong nucleophile base such as pyridine (C5H5N), the complex (C6F5)3B.NC5H5 is formed and is only physisorbed onto silica surface. Without a base, B(C6F5)3 does not react with (≡Si–OH), and is only physisorbed. On the contrary, with any molecular compound ROH, B(C6F5)3 forms a stable complex (C6F5)3B ̇O(H)R. To cite this article: N. Millot et al., C. R. Chimie 7 (2004).
Le texte complet de cet article est disponible en PDF.Résumé |
Le tris(pentafluorophényl)bore B(C6F5)3 ne réagit avec les groupes silanol (≡Si–OH) de surface de la silice qu'en présence d'une base de Brønsted (diéthylaniline, Et2NPh), qui, ne formant pas de complexe avec B(C6F5)3, conduit de façon sélective à une entité ionique de surface [≡SiO–B(C6F5)3]–[HNEt2Ph]+ bien définie. Avec une base plus nucléophile telle que la pyridine (C5H5N), il y a formation du complexe (C6F5)3B.NC5H5 qui est seulement physisorbé sur la surface de silice. En l'absence de base, B(C6F5)3 est simplement physisorbé de façon réversible sur la surface de silice, alors qu'il forme avec tout dérivé moléculaire ROH un complexe stable (C6F5)3B ̇O(H)R. Pour citer cet article : N. Millot et al., C. R. Chimie 7 (2004).
Le texte complet de cet article est disponible en PDF.Keywords : Tris(pentafluorophenyl)borane, Silica, Diethylaniline, Heterogeneous anions, Polymerisation co-catalyst
Mots-clé : Tris(pentafluorophényl)borane, Silice, Diéthylaniline, Anions hétérogénes, Co-catalyseur de polymérisation
Plan
Vol 7 - N° 8-9
P. 725-736 - août 2004 Retour au numéro
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